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中国自研光刻机遭批，被指破坏全球芯片产业链，打压再升级？
随着中国自研光刻机技术的不断发展，近年来，国内光刻机企业在芯片制造中崭露头角，并日益受到关注。然而，近日有关光刻机的争议再度引发公众关注。有业内人士指出，中国自研的光刻机虽然成功研制，但却被指破坏了全球芯片产业链，这一说法在业内引起热议。特别是最近一些事件的发生，更是引起了西方国家的警惕，把对中国技术的打压再次升级。中国自研光刻机的争议，究竟是技术之争还是政治之争？这是一个值得深入探讨的问题。
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干勇：关注半导体材料发展国际趋势
从国际半导体产业发展趋势来看，随着硅半导体材料主导的摩尔定律逐渐走向其物理极限，同时硅也满足不了微波射频、高效功率电子和光电子等新需求快速发展的需要，以化合物半导体材料，特别是第三代半导体为代表的半导体新材料快速崛起，未来10年将对国际半导体产业格局重塑产生至关重要的影响。第三代半导体兴起于上世纪90年代初，以碳化硅（SiC）、氮化镓（GaN）等宽禁带半导体材料为代表，具备击穿电场高、热导率大、电子饱和漂移速率高、抗辐射能力强等优越性能，是广泛用于信息化社会、人工智能、万物互联、现代农业、现代医疗、智能交通、国防安全等重点领域的关键材料，其发展水平是反映一个国家高技术实力、国防能力和国际竞争力的主要标志之一。
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